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Q300T D Plus大腔室雙靶離子濺射鍍膜儀
全部分類
Q300TDplus_right
standard_rotating_specimen_stage_with_wafer
dual_sputtering_heads_and_shutter
microscope_slide_stage_1
rotary_planetary_stage

Q300T D Plus大腔室雙靶離子濺射鍍膜儀

產品型號:
Q300T D Plus
Q300TDplus_right
standard_rotating_specimen_stage_with_wafer
dual_sputtering_heads_and_shutter
microscope_slide_stage_1
rotary_planetary_stage
產品描述

Q300T D Plus大腔室、多功能、高真空雙頭離子濺射鍍膜儀

Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序濺射,具有兩個獨立的濺射頭,可以順序濺射兩種金屬而其間無需破真空。用戶自定義抽真空程序、濺射時間、濺射循環次數、濺射電流等工作參數,全自動運行。通過兩靶間循環鍍膜程序,可實現兩種靶材無限層不同厚度的順序鍍膜。當不使用時,靶材會被擋板遮擋以防止污染?;臉悠房捎貌谎趸饘伲ㄙF金屬)如金(Au)鉑(Pt)鍍膜,也可用銥(Ir)鍍制具有精細成膜顆粒結構的膜層。由于具有高真空系統及擋板裝置,Q300T D Plus也能用易氧化材料如鉻(Cr)及鋁(Al)等鍍制精細膜層。Q300T D Plus標配鉻(Cr)靶和金(Au)靶。

有關采用三靶鍍制大面積相同材料的膜層,請參閱Q300T T Plus。其它大腔室鍍膜儀,請參閱K975X/K975S以及Q300T ES Plus。

儀器特點:

•   電容式觸摸屏,靈敏度高,更易觸控使用

•   用戶界面軟件全面更新,使用現代智能手機技術界面

•   全面的文字幫助頁面

•   USB接口可輕松進行軟件更新,也可將配方文件備份/復制到USB存貯器

•   log文件格式為.csv,內含日期、時間和工作參數,可導出至Excel或類似軟件中分析

•   允許多用戶輸入和儲存鍍膜方案,并可根據最近的使用情況來排列每個用戶的配方

•   雙核ARM處理器,可實現快速響應的顯示;帶觸摸屏按鈕的全圖形界面,包括最近使用的1000個鍍膜日志和維護到期時的提醒等功能

•   可拆卸式玻璃腔室,容易清潔底座和頂板,設有防爆罩。如有必要,用戶可以快速更換腔室,以避免敏感樣品的交叉污染。高腔室選項可避免樣品過熱,提高濺射的均勻性和承載較高尺寸的樣品

•   雙頭濺射-適用于順序濺射鍍膜;磁控冷濺射,脈沖清潔用于濺射Al(鋁)

•   可選的雙膜厚監控附件(FTM

•   大而多色的LED指示燈,實現可視化狀態指示;程序完成后具有音頻聲音提示

推薦應用:

•   理想的多層濺射鍍膜應用

•   粘附研究

•   無需破真空即可實現兩種金屬的順序鍍膜。例如,先鍍一層薄的“晶種”鉻(Cr)層,然后鍍金(Au

•   亦可選擇其中一個靶頭,實現單金屬應用

•   可濺射各種易氧化和非易氧化金屬,用于薄膜和電子顯微鏡應用

Q300T D Plus是英國Quorum出品的國際認可的Q系列鍍膜儀的一部分,全球數千家客戶使用此類鍍膜儀。Q系列旨在為SEM、TEM和薄膜應用提供高質量的鍍膜解決方案,Q系列功能多樣、價格合理且易于使用。這些產品專供科研用途。

Q Plus系列鍍膜儀也有較小腔室的版本,請參閱:Q150R Plus、Q150T Plus以及Q150V Plus;SC7620Q150GB也是可選的型號。

 

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