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JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)
全部分類
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c2-2
c2-3
c2-4

JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

自上世紀八十年代成立以來,美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制,其研發的納米圖形發生器系統(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統,簡稱NPGS,又稱電子束微影系統)技術在全球同類系統中首屈一指,為行業領先者,世界各地越來越多的用戶包括大學、科研機構及政府實驗室在使用NPGS進行EBL研究工作.
產品型號:
c2-1
c2-2
c2-3
c2-4
產品描述

  基于SEM/FIB改裝的NPGS V9.1電子束曝光系統

  1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等為基礎,外加電子束控制系統,透過電腦界面控制電鏡中電子束的矢量掃描,以直接刻寫圖形。

  2)NPGS系統兼具原SEM的觀測功能。不影響SEM本身功能。

  3)功能強大、操作簡便、使用靈活。

  4)NPGS和當今主流的SEM或FIB等均可配套。

  NPGS V9.0是一個可以控制掃描電鏡電子束的軟件程序?;陔婄R的電子束曝光簡單分為兩部分:刻寫設計和圖形運行??虒懺O計是通過NPGS隨機提供的DesignCAD程序來做。此CAD程序已經過修改,增加了用于電子束曝光的命令。圖形運行包括設定參數,用于NPGS計算圖形上每個點的位置以及曝光時間。

  NPGS硬件板卡:定制的微影板卡是基于一個計算機工作站內部高速PCIe插槽安裝的。主要特點是:

  1. 采用16位高速數模轉換輸出,X、Y雙通道同時輸出,同步掃描頻率5 MHz,兼容6MHz,電子束駐留時間最小增量0.5納秒,且所有頻率下均能達到這個分辨率。

  2. 刻寫掃描方式:矢量掃描方式和位圖掃描方式。

  3. 集成的電子束閘控制輸出。

  4. 圖像獲取采用集成的16位模數轉換輸入。

  5. 基于PCIe插槽,安裝方便,運行可靠。

  電子束阻斷器(束閘):電場型高速束閘。NPGS系統也支持無束閘運行。

  皮可安培計:基于SEM的電子束曝光系統需要一個皮安計,它可精確讀出轟擊樣品的電子束束流。通常,需要從電鏡載物臺外接一個皮安計與樣品電流輸出相連。

  電鏡束流:NPGS能可選連接控制法拉第杯和/或從皮可安培計讀數,但大多數用戶會采用手動控制的法拉第杯和皮可安培計。

  電鏡參數及電動臺控制:免費提供幾款通用的電鏡數字驅動程序及載物臺驅動程序。如果有串口通訊協議,本系統支持任何外部控制。

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