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美國PIE EM-KLEEN遠程等離子清潔儀
全部分類
lzy1
EM_KLEEN-s
SEMI
Principle_of_Remote_plasma_cleaning_
yc_ALD
em_zeiss
EM kleen source and controller

美國PIE EM-KLEEN遠程等離子清潔儀

用于SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系統的遠程等離子清潔儀。遠程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上,控制器向遠程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發等離子體,分解輸入氣體而產生氧或氫的活性基,活性基會擴散到下游的真空腔室,并與其中的污染物發生化學反應,反應產物能輕易地被抽走。遠程等離子清潔儀可同時清潔真空系統和樣品!
產品型號:
EM-KLEEN/SEMI-KLEEN quartz/SEMI-KLEEN?sapphire
lzy1
EM_KLEEN-s
SEMI
Principle_of_Remote_plasma_cleaning_
yc_ALD
em_zeiss
EM kleen source and controller
產品描述

遠程等離子清潔儀

 

用于SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系統的遠程等離子清潔儀。遠程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上,控制器向遠程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發等離子體,分解輸入氣體而產生氧或氫的活性基,活性基會擴散到下游的真空腔室,并與其中的污染物發生化學反應,反應產物能輕易地被抽走。遠程等離子清潔儀可同時清潔真空系統和樣品!

 

遠程等離子清潔儀系列具有三種型號:

1EM-KLEEN 一款智能設計、功能強大的下游等離子清潔儀。

2SEMI-KLEEN quartz是為滿足半導體行業的苛刻清潔要求而設計

解決方案。

3SEMI-KLEEN sapphire用于半導體行業的去污清潔,且支持耐

腐蝕性氣體等離子應用。

 

儀器特點:

 快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。

不需減速或關閉渦輪分子泵

 低等離子偏壓設計減少離子濺射和顆粒生成。結合自有專利多級

氣體過濾技術,SEMI-KLEEN能夠滿足用戶最苛刻的顆粒污染清除要求

 可選藍寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等應用

 特有的等離子強度傳感器可實時監測等離子狀態,用戶對等離子狀態一目了然

 基于壓力傳感回饋控制的自動電子流量控制器,無需手動調節針閥

 直觀的觸摸屏操作,可定義60條清洗程序方案

 擁有智能安全操作模式和專家控制模式;SmartScheduleTM定時裝置,通過檢測樣品裝載次數或時間間隔來定時清潔系統

 低電磁干擾設計,安靜的待機模式

 

推薦應用:

•  FE-SEM、FIBTEM的原位樣品清潔

•  適用于半導體設備,如CD-SEM, EBR, EBI, EUVL

•  高真空室清潔,去除碳氫化合物和氟碳污染物

•  減少特高真空(EHV)和特高真空(UHV)泵的停機時間

•  適用于XPS、SIMS、AES和原子探針的腔室和樣品清潔

•  適用于ALD和其它半導體加工設備的腔室和樣品清潔

PIE Scientific研發的SmartClean™ 技術結合了核研究

和半導體行業最先進的等離子體放電技術。EM-KLEEN

SEMI-KLEEN等離子清潔儀比前幾代等離子體清潔儀

先進得多。我們的等離子清潔儀可以在任何技術指標上

更勝一籌;此外,許多獨特的功能只是在我們的儀器

產品上才擁有。

 

我們還提供其它系列樣品清潔、樣品桿清潔及存儲等應

的儀器,如您需要,請參考Tergeo系列、

Multipurpose ChamberTEM holder storage。

 

 

 

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